Die TEUVL-Systeme bieten eine direkte und kostengünstige Lösung für die hauseigene Charakterisierung von aktinischen EUV-Resists. Durch den Einsatz unserer EUV-Lampe mittlerer Leistung mit einer Standardleistung von 500 mW/(2 psr) bei einer Bandbreite von 2 % um 13,5 nm lassen sich innerhalb weniger Minuten etwa 10 mJ/cm² akkumulieren. Die EUV-LAMP bietet eine Lebensdauer von etwa 1.000 Stunden und lässt sich durch einfachen Austausch des Lichtkopfes und unkomplizierte Wartung leicht instandhalten. Das Standardgerät ist vollständig reinraumtauglich ausgelegt und lässt sich einfach über ein Bedien-Touchpanel bedienen, wobei die Prozesskammer als Ladeschleuse zum Einlegen des Fotolacks mit der beschichteten Seite nach unten dient. Eine 1:1-Strukturierungsoption für einen Pitch von < 100 nm kann bei EUV-Masken in Kontakt mit dem Fotolack angewendet werden.