EUV / XUV Systeme

EUV / XUV-Lösungen

RI Research Instruments bietet fortschrittliche Lösungen zur Nutzung von XUV- und EUV-Photonen für Anwendungen in der Nanoskopie, Nanolytik und EUV-Lithographie-Infrastruktur. Wir liefern eigenständige Geräte an führende Halbleiterhersteller und Forschungsinstitute, die ein breites Spektrum von Aktivitäten unterstützen - von der weichen Röntgenabbildung von biologischem Gewebe bis hin zu modernsten EUV-Anwendungen. Unser Portfolio umfasst auch Systeme für die Solarforschung, die Photochemie und kundenspezifische DPP- und LPP-Quellen für die Erzeugung von XUV-, EUV- und weicher Röntgenstrahlung.

Unsere Einrichtungen sind mit einer umfassenden Palette von Werkzeugen, hochmodernen Maschinen, speziellen Reinräumen und fortschrittlichen Labors für Sauberkeit und Präzisionsmessungen ausgestattet. Alle Produktionsprozesse werden intern verwaltet, um die höchsten Qualitäts- und Leistungsstandards zu gewährleisten.

Bild einer EUV-Quelle. Links ein Kontrollschrank mit Knöpfen und Bildschirm, rechts, die Lampe in einer fußballgroßen Metallkammer auf einem Rolltisch

28 nm HP-Kontaktlöcher gedruckt mit Interferenzbelichter EUV-LET

EUV / XUV-Portfolio

Unsere Bausteine, Lösungen und Werkzeuge umfassen:

Eigenständige DPP- und LPP-Quellen für XUV, EUV (13,5nm) und weiche Röntgenstrahlung mit anwendungsspezifischen Schnittstellen (Debris Mitigation, SPF, Kollektoren) in verschiedenen Qualitäten für F&E und für den industriellen Einsatz
Metrologie-Werkzeuge für die Charakterisierung von XUV-Quellen
Aktinische EUV-Werkzeuge für die EUV-Lithographie-Lieferkette wie z. B.:
- EUV-MBR: EUV-Maskenblank-Reflektometer für spektrale Reflektometrie bei 13,5 nm Wellenlänge
- EUV-AIMER: EUV-Maskenblank-Reflektometer für die spektrale Reflektometrie bei 13,5 nm Wellenlänge
- EUV-PRTT: EUV Pellicle Reflexions- und Transmissionsmessgerät bei 13,5 nm Wellenlänge
- EUV-TEUVL und EUV-LET: Aktinische EUV-Resist Tools, die für Empfindlichkeits- und Auflösungstests bündig oder störungsfrei belichtet werden
Weiche Röntgen- und EUV-Mikroskope
Lösungen für Spektrometrie, Nanotechnologie, Photochemie
Lösungen für EUV-Bestrahlung und Wechselwirkungsstudien

EUV-Lithografie

Mit der wachsenden Bedeutung der Massenproduktion von Chips mittels EUV-Lithographie (EUVL) steigt der Bedarf an aktinischen EUV-Lösungen bei der Lithographie-Wellenlänge von 13,5 nm, für die Metrologie und Werkzeuge für Forschung, Entwicklung und Qualitätskontrolle in der Lieferkette.

RI Research Instruments trägt zum Aufbau einer nachhaltigen EUV-Lithografie-Infrastruktur bei, indem wir aktinische Technologien und Werkzeuge entwickeln, z. B. eigenständige Werkzeuge für EUV-Resist, Pellicle, Maskenrohling und Maskencharakterisierung, die wir an weltweit führende Halbleiterunternehmen und Forschungslabors liefern. Unser breit gefächertes Portfolio modernster Lösungen basiert auf mehr als zwanzig Jahren Erfahrung mit EUV- und Soft-Ray-Anwendungen sowie auf unserem umfassenden Know-how in den Bereichen Technik, Design, Steuerung, Fertigung, Reinraum und UHV.

Ganzflächige effektive AIMER-Reflexionskarte eines mit Absorber beschichteten Maskenrohlings

Spektral aufgelöste EUV-Rahmenmaske (Mitte) im Vergleich zu Referenzspiegeln (links/rechts)

Bild von EUV-PRTT, einem großen Metallschrank mit Steuerungsdisplay und Betriebsleuchte

Kundenspezifische Entwicklungen

Bei RI bieten wir mehr als nur Standardlösungen für aktinische Werkzeuge für EUV-Lithographie, weiche Röntgenstrahlung und VUV-Anwendungen. Ein zentraler Bestandteil unseres Geschäfts ist die Entwicklung, Konstruktion, Herstellung, Prüfung und Lieferung von Systemen und Komponenten, die auf die Bedürfnisse unserer Kunden zugeschnitten sind. Mit einem etablierten Netzwerk erfahrener Partner basieren unsere Entwicklungen auf bewährten Bausteinen und Komponenten, unterstützt durch unsere Erfahrung in der schnellen Umsetzung von gezeichneten Anforderungen bis hin zum dedizierten Werkzeugbetrieb beim Kunden vor Ort.

Unsere Forschungs- und Anwendungslabore unterstützen solche Entwicklungen, indem sie den Nachweis von Konzepten oder Tests von kritischen Komponenten mit verfügbaren EUV-Quellen, Komponenten und Testanlagen ermöglichen.