EUV-Lösungen
EUV-Quellen
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EUV-Quellen
EUV-Quellen
Die Xenon-Plasma basierten Quellen EUV-LAMP von RI bieten einen schnellen, sicheren, zuverlässigen, einfachen und kostengünstigen Zugang zu EUV-Strahlung in Forschungs- und Anwendungslabors und lassen sich problemlos in Mess- und Belichtungsgeräte integrieren. OEM-Quellen werden kundenspezifisch gefertigt. EUV-LAMP-Systeme erzeugen das EUV-emittierende Plasma durch eine gepulste Hochstromentladung, die durch das elektrische Feld zwischen den Elektroden gesteuert wird.
Seit 2001 wurden über 40 EUV-LAMP-Systeme hergestellt, die für verschiedene Zwecke maßgeschneidert wurden: für eigenständige Experimente, für OEM-Aufträge sowie als integraler Bestandteil unserer eigenen EUV-Metrologie-Systeme wie EUV-MBR und EUV-PRTT.
Wir bieten maßgeschneiderte XUV-Lampen mit technischer Unterstützung, Machbarkeitsstudien und Tests an. Zu unserem Portfolio gehören Systeme zur Verringerung von Partikelablagerungen, Spektralfilterung, Dünnschichtfenster/-filter im Vakuum, Monitore und strahlformende Optiken.
Neben diesen Standardlösungen bieten wir maßgeschneiderte Laser-Produced-Plasma (LPP)-Systeme sowie technisch ausgefeilte Lichtquellenlösungen an, die genau auf Ihre Anforderungen zugeschnitten sind.
Eigenständige EUV-Lampe mit abgesetztem Strahlerkopf und Steuerungsgehäuse
Literatur
R. Lebert, C. Phiesel, T. Missalla, and A. Biermanns-Föth: “The EUV-Lamp: A discharge-produced metrology EUV source”, Chapter 11 in Photon Sources for Lithography and Metrology, V. Bakshi, Editor, SPIE Press,. 413-476 (2023)
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