EUV- & XUV-Lösungen
Kundenspezifische
Entwicklungen
EUV- & XUV-Lösungen
Kundenspezifische
Entwicklungen
Kundenspezifische Entwicklungen
Bei RI bieten wir mehr als nur Standardlösungen. Ein zentraler Bestandteil unserer Geschäftstätigkeit ist die Entwicklung, Konstruktion, Fertigung, Prüfung und Lieferung von Systemen und Komponenten, die genau auf die Bedürfnisse unserer Kunden zugeschnitten sind. Dank eines etablierten Netzwerks erfahrener Partner basieren unsere Entwicklungen auf bewährten Bausteinen und Komponenten, gestützt durch unsere Erfahrung in der schnellen Umsetzung – von der Anforderungsdefinition bis zum Betrieb der maßgeschneiderten Anlage beim Kunden vor Ort.
Unsere Forschungs- und Anwendungslabore unterstützen solche Entwicklungen, indem sie Proof-of-Concepts oder Tests kritischer Komponenten mit verfügbaren EUV-Quellen, Bauteilen und Testanlagen ermöglichen.
Der XUV-SPM
Das XUV-Spektralphotometer (XUV-SPM) wurde entwickelt, um den Anforderungen der Forschung und der frühen Entwicklungsphase von EUV-Komponenten gerecht zu werden. Es verfügt über eine hauseigene, eigenständige Messanlage für aktinische EUV-Messtechnik, die flexibel auf einen breiten Bereich von Probengrößen, Einfallswinkeln und Spektralbändern eingestellt werden kann. Es basiert auf der Nutzung von Laborquellen für extremes Ultraviolett (XUV) für analytische Anwendungen. Das XUV-SPM ist auf die spektral aufgelöste Charakterisierung von optischen Elementen, Dünnschichten und Mehrschichtstrukturen spezialisiert.
Das XUV-SPM ermöglicht Messungen in einem breiten Spektralbereich von 2 nm bis 40 nm (50 eV bis 500 eV). Durch den Einsatz der eigenständigen XUV-SPM-Lösung können viele Experimente, die routinemäßig an Strahlführungen durchgeführt werden, in die einzelnen Labore verlagert werden.
SPM in einer eigenständigen Laborinstallation
Probe in Position
Normale Reflexion an einer Mehrschicht
Reflexion von Streulicht auf einem Siliziumwafer
Lichtdurchlässigkeit des Siliziumnitrid-Fensters
Literatur
H. Blaschke, I. Balasa, L. Koch, K. Starke, D. Ristau, C. Wies, R. Lebert, A. Bayer, F. Barkusky, K. Mann: Optics characterization with compact EUV spectrophotometer, Proc.SPIE 692228 (2008)
DOI: 10.1117/12.772859
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